1. 统筹团簇刻蚀设备全流程工艺顶层设计,基于集成电路加工量产标准制定整套工艺路线,主导 实验室样机迭代、整机调试、工艺定型,打通从实验室设备到晶圆量产设备的落地路径。 2. 深耕先进晶圆刻蚀需求,结合量产产线实操经验,输出设备硬件设计需求,牵头腔体、气路、 等离子系统、传输结构优化评审,解决量产适配性、工艺均匀性、晶圆损伤等核心痛点。 3. 负责适配集成电路的团簇刻蚀工艺开发,完成各类薄膜刻蚀参数验证、工艺窗口固化;统筹设 备电控逻辑规划,实现刻蚀工艺、等离子控制、设备动作一体化联动。 4. 对接头部晶圆制造工厂,跟进客户试样、产线验证、小批量试产,根据量产反馈持续优化工艺 与设备方案,改善边缘形貌、刻蚀缺陷、产能稳定性,满足 FAB 大批量生产要求。 5. 对标行业晶圆厂量产规范、半导体装备验收标准,搭建刻蚀全套工艺 SOP、良率管控、设备运维 规范;统筹跨研发、机械、电气、项目团队协同,沉淀工艺专利与技术文档。 6. 统筹重大工艺、设备故障攻关,预判未来先进刻蚀技术趋势;牵头工艺团队搭建与技术赋能, 保障设备长期适配芯片迭代需求。
职位描述
企业介绍
南京某半导体设备公司
职位信息
所属部门:半导体工艺
汇报对象:常务副总裁
发布日期:2026年9月21日 上午10:31:21
语言要求:英语
年龄要求:不限
行业领域:半导体