职业描述: 1. 工艺开发与维护:负责LPCVD机台的工艺调试、验收及日常维护,重点攻克低应力氮化硅、多晶硅(Poly-Si) 及氧化硅的薄膜沉积工艺。 2. 良率提升:针对薄膜均匀性、颗粒度及应力翘曲进行系统性优化,解决工艺过程中缺陷。 3. 新设备导入:负责设备安装及二次配技术对接,制定标准作业流程。 4. 新工艺开发:配合研发部门开发高深宽比间隙填充工艺,应对3D器件结构对台阶覆盖性的苛刻要求。 5. 成本控制:优化工艺气体及特种特气的消耗量,延长石英管、舟架等耗材寿命,降低单片综合成本。 任职要求: 1. 学历背景:本科及以上学历,微电子、材料物理、化学工程、凝聚态物理等相关专业。 2. 工作经验:本科5年以上,硕士3年以上半导体行业LPCVD工艺经验。有 8英寸产线或先进封装TSV领域薄膜经验者优先。 3. 专业技能: 精通LPCVD热化学反应机理,能独立分析椭偏仪等膜质表征数据。 熟悉主流机台(如TEL、北方华创、中微半导体)的操作及PM流程。 具备使用DOE进行工艺窗口优化的实战能力。 4. 素质要求:具备极强的洁净室安全意识,能接受白夜班需求。
职位描述
企业介绍
苏州某半导体无源器件设计生产企业
职位信息
所属部门:半导体工艺
汇报对象:经理
更新时间:2026-11-09
语言要求:语言能力不限
年龄要求:不限
行业领域:电子/芯片/半导体